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2021-930
1、配制電解液：用500ml蒸餾水溶解，300型為：130g氫氧化鉀，待溶液冷卻后注入液罐，并補充蒸餾水至液位刻度。注液口應該要位于儀器頂部，按標志取下蓋后馬上進行注液。工作時須保證儀器“O2"口暢通，如果儀器停止工作15天請將電解液抽出。2、將氮氣發生器輸出密封帽旋緊，接通電源線，打開按鈕開關。空氣“Air"工作指示燈呈黃綠色，空氣輸出壓力表指針慢慢上升到0.4Mpa；“H2"系統自動啟動，流量顯示為：280~380ml/min，數分鐘后，“H2"的流量顯示為“000"或接...
查看更多2021-924
1.電化學法制氮在氫氣電解池的陰極(產氫氣一側)通入高壓空氣，在催化劑作用下，氫氣和氧氣形成微觀燃料電池，完成氧化還原反應生產水，宏觀上表現即為空氣中的氧氣被除去，剩余氮氣。這種方法可以產出高99.995%的氮氣，但有幾個明顯的缺陷：一需用到高濃度氫氧化鉀溶液做電解液，這種強堿溶液與氣體直接接觸，對氣體質量有潛在影響，并有隨氣路輸出的可能性；二單位成本高；三反應過程只去除了空氣中的氧氣，其它雜質氣體并沒有涉及，并且反應過程對電解池制作技術要求很高，不合適的電解池制作技術會造成...
查看更多2021-97
一、引言化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition，CVD)和金屬有機化學氣相沉積(MetalOrganicChemicalVaporDeposition，MOCVD)是兩種在半導體制造中廣泛應用的薄膜沉積技術。這兩種技術都需要使用高純度的氫氣作為反應氣體。因此，CVD，MOCVD專用氫氣發生器的操作對于保證薄膜質量和設備安全至關重要。二、儀器簡介CVD，MOCVD專用氫氣發生器是一種能夠產生高純度氫氣的設備，主要用于半導體制造中的CVD和MOCVD過程。該...
查看更多2021-91
氮氣是空氣中體積分數Zda的一種惰性氣體，化學分子式為N2，通常狀態下無色無味，比空氣密度小。氮氣化學性質不活潑，常溫下難與其他物質進行反應，因此通常被用作保護氣體，液氮可用作深度冷凍劑，高純氮氣可用作色譜等儀器的載氣，氮氣的性質決定了它的用途的廣泛。大流量氮氣發生器采用的是電催化方式，其中電解池是操縱燃料電池的逆過程設計而成。由于壓力是不變的，干凈的進料空氣送入電解槽，空氣中的氧氣被吸附在陰極電子獲得，生成氫氧根離子和水的影響，并遷移到陽極，然后在陽極處失電子析出氧氣。只留...
查看更多2021-83
大流量氫氣發生器是實驗室用來制備氫氣的儀器，常溫常壓下，氫氣是一種易燃燒，無色透明、無臭無味的氣體。質量只有空氣的1/14，即在0℃時，一個標準大氣壓下，密度為0.0899g/L。所以可作為飛艇、氫氣球的填充氣體(由于具有可燃性，安全性不高，飛艇現多用氦氣填充)，本氣體是相對分子質量小的物質，主要用作還原劑。今天咱們來了解下大流量氫氣發生器中氫氣的凈化方法：氫氣從電解槽電解出來之后，都需要經過凈化才能供氣相色譜儀使用，常用的凈化方式主要有以下幾種：1、變壓吸附凈化系統變壓吸附...
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